Halbleiterfertigung: Chinas erster DUV-Belichter soll in Produktion gehen

Ein strategischer Schritt in der Halbleiterfertigung

Die technologische Souveränität in der Halbleiterproduktion hat für China höchste Priorität. Angesichts drohender Verschärfungen bei den Exportkontrollen durch die USA, insbesondere im Kontext des sogenannten Match Acts, intensiviert das Land seine Bemühungen, eine eigene Infrastruktur für die Chipfertigung aufzubauen. Im Zentrum steht dabei die Entwicklung von DUV-Immersionsbelichtern (Deep Ultraviolet), die für moderne Chip-Prozesse unerlässlich sind.

Berichten zufolge steht nun das erste chinesische Modell vor der Serienreife. Während der Markt bisher stark von der niederländischen ASML dominiert wird, soll die lokale Alternative den Grundstein für eine unabhängige Produktion legen. Die Pläne sehen vor, im Jahr 2026 fünf dieser Maschinen zu fertigen und die Kapazitäten bis 2027 auf rund 20 Einheiten pro Jahr zu steigern.

Technologische Herkunft und Abhängigkeiten

Die Identität des Herstellers hinter dem Projekt bleibt offiziell vage. Es gibt jedoch Hinweise, dass es sich um das Unternehmen Yuliangsheng handeln könnte, das bereits im September 2026 mit der Entwicklung eines 28-nm-Belichters in Erscheinung trat. Die Entwicklung scheint ein Gemeinschaftsprojekt zu sein, an dem Ingenieure verschiedener Maschinenbauer mitgewirkt haben.

Trotz des Ziels einer autarken Produktion ist das System nicht vollständig unabhängig von ausländischen Zulieferern. Während ein Großteil der Komponenten aus China stammt, sind für kritische Bauteile weiterhin Importe aus Japan notwendig. Auch bei den benötigten Fotolacken sind chinesische Halbleiterproduzenten nach wie vor auf japanische Spezialisten wie Shin-Etsu angewiesen.

Herausforderungen bei der Implementierung

Die ersten Maschinen sollen an bedeutende Akteure wie SMIC, Huahong und den Flash-Speicher-Spezialisten YMTC geliefert werden. Dort steht jedoch zunächst eine langwierige Integrationsphase an. Die Hersteller müssen prüfen, wie sich die neuen Belichter in die bestehenden Produktionslinien einfügen lassen und ob sie mit der vorhandenen Ausrüstung kompatibel sind.

Ein kritischer Punkt ist die sogenannte Ausbeute (Yield). In der Vergangenheit führte der Einsatz chinesischer Maschinen oft zu einer geringeren Effizienz, da die Abstimmung mit anderen Systemen schwierig war. Die Zuverlässigkeit der neuen Geräte muss sich erst über mehrere Monate hinweg beweisen, bevor sie in großem Stil eingesetzt werden können.

Leistungsgrenzen im Vergleich zu ASML

Analysen deuten darauf hin, dass die chinesische Eigenentwicklung leistungstechnisch noch hinter den etablierten Standards von ASML zurückbleibt. Das Auflösungsvermögen des Systems wird hinter dem von ASML-Modellen wie dem NXT:1950i – einem bereits 2008 vorgestellten System – eingeordnet. Zudem dürfte der Durchsatz an Wafern pro Stunde unter dem der niederländischen Konkurrenz liegen.

Experten betonen, dass die Maschine derzeit keine direkte Konkurrenz für die modernsten ASML-Systeme darstellt. Dennoch löste die Nachricht über den Produktionsstart Marktbewegungen aus: Die Aktienkurse von ASML sowie zahlreicher Zulieferer und Halbleiterhersteller gerieten nach Bekanntwerden der Pläne unter Druck. Dies spiegelt die Unsicherheit wider, wie stark sich eine erfolgreiche Etablierung chinesischer Fertigungstechnik langfristig auf die globalen Marktanteile auswirken könnte.

Ausblick auf die nächsten Schritte

Die kommenden Monate werden zeigen, ob die chinesischen Hersteller die technischen Hürden überwinden können. Die Produktion von 20 Einheiten im Jahr 2027 ist im Vergleich zur jährlichen Kapazität von ASML, die bei etwa 130 DUV-Immersionsbelichtern liegt, noch gering. Der Fokus liegt daher zunächst auf der Validierung der Technologie und der schrittweisen Optimierung der Produktionsprozesse, um die Abhängigkeit von westlicher Hochtechnologie zumindest teilweise zu reduzieren.